Tanner EDA는 직관적인 회로도 캡처(S-Edit)부터 검증된 피지컬 레이아웃(L-Edit IC), 업계 표준 MEMS 설계 환경을 통합 제공합니다. 30개 이상의 주요 파운드리와 200개 이상의 PDK를 기반으로 높은 비용 효율성과 설계 생산성을 보장합니다.
회로도 캡처부터 풀 커스텀 레이아웃, MEMS 3D 디지털 트윈까지 한 플랫폼에서 연결합니다.
복잡한 Full-Custom 설계를 직관적으로 처리하는 강력한 회로도 에디터. 시뮬레이션 셋업, 실행 및 파형 분석(Ezwave)을 한 화면에서 제어합니다.
· 다중 뷰 지원 (SPICE, Verilog, Verilog-A, Verilog-AMS, VHDL-AMS)
· Monte Carlo, Sweep, Corner 해석 결과의 실시간 수렴 및 집계
· Calibre LVS 리포트 및 레이아웃과의 실시간 상호 탐색(Cross-probing)
계층형(Hierarchical) 레이아웃 에디터로, 회로도 기반 레이아웃(SDL)과 고급 배선 자동화로 물리적 설계 기간을 획기적으로 단축합니다.
· FinFET, Planar 및 전력 트랜지스터 공정 지원
· Flyline 표시 및 쇼트/오픈 연결성(Connectivity Checker) 사전 검사
· Calibre / Calibre RealTime과의 직접 통합으로 즉각적인 룰 검증
일반 기계 CAD와 달리 마스크 명암(Clear/Dark fields)을 직관적으로 확인하고 곡면 폴리곤을 정밀하게 편집하는 MEMS 전용 레이아웃 툴입니다.
· 트루 커브(True Curve) 및 전 각도(All-Angle) 불리언 연산 지원
· SoftMEMS 3D Modeler를 통한 공정 기반 3D 솔리드 모델 자동 생성
· 멀티피직스 해석 툴(Ansys, COMSOL, OnScale)로의 FEM/BEM 메쉬 출력
회로도 기반 레이아웃과 MEMS 디지털 트윈을 하나의 흐름으로 연결합니다.
회로도(S-Edit)에서 정의된 파라미터 셀(P-Cell)을 레이아웃(L-Edit)으로 자동 인스턴스화하여 첫 시도부터 회로도와 100% 일치하는 물리 설계를 완성합니다.
넷/소자 하이라이트와 Flyline 기반 혼잡도 제어로 라우팅 오류를 원천 차단합니다.
L-Edit MEMS에서 작성한 2D 마스크 레이아웃과 공정 파라미터를 결합하여 실제 제작 전 3D 솔리드 형상을 가상으로 구현합니다.
압전 초음파 센서(PMUT), 공진기(Resonator) 등의 전기-기계-유체 다중물리 해석을 외부 FEM 툴과 완벽하게 연계합니다.
S-Edit, L-Edit IC, L-Edit MEMS의 타깃 설계와 검증 연계, 확장성을 한눈에 비교합니다.
기계 CAD는 기구 형태 설계에 치중되어 반도체 마스크 제작(Clear/Dark 필드 구분, 포토리소그래피 오버랩) 검토가 어렵습니다. L-Edit MEMS는 파운드리 공정 마스크 기반의 룰 검증(DRC)과 반도체 패브리케이션에 최적화된 트루 커브 폴리곤을 지원합니다.
업계 표준 데이터베이스인 OpenAccess 및 iPDK를 기본 지원하므로, 다른 툴과의 데이터 교환 및 기존 설계 자산(IP)의 마이그레이션이 매우 매끄럽습니다.
고객사의 프로젝트 규모와 공정 환경에 맞는 Tanner EDA 라이선스 구성 및 PDK 연동 기술 지원을 제공합니다.
기술/영업 문의: 02-2069-0099 · ednc-sales@ednc.com · (주)이디앤씨