3월 032017
 

현재의 MEMS 설계 분야에서의 SW 통합은 과거보다 훨씬 증가했습니다. 시장 경쟁에 대응하기 위해서라도 설계 주기를 단축하기 위한 확실한 통합 SW 가 필요합니다. Tanner EDA 는 Analog / Digital Mixed Signal 설계뿐만 아니라 MEMS Device 와의 통합 역시 쉽게 가능합니다.

그림-1. Tanner MEMS Design Flow

Tanner MEMS Design Flow 는 MEMS 환경에서 3D MEMS 설계 및 제조 지원을 제공하며 MEMS 소자를 Analog/Mixed-Signal Process 회로와 동일한 IC 에 쉽게 통합 할 수 있도록 해줍니다. Foundry-Proven Mechanical, Thermal, Acoustic, Electrical, Electrostatic, Magnetic 와 Fluid 분석을 통해 MEMS 디바이스의 제조 가능성을 향상시킵니다.

Tanner MEMS Design Flow 의 중심적인 역할은 바로 Tanner L-EDIT 입니다. (그림-2)

Tanner L-EDIT 는 곡선, 다각형, Any Angle 폴리곤 혹은 부울 연산등과 같이 MEMS 설계에 적절한 기능을 제공합니다.

그림-2. Tanner MEMS UI 화면

기계 엔지니어링으로 개발된 다른 CAD SW 와는 대조적으로, Tanner L-EDIT MEMS 는 마스크를 신속하게 편집하고 결합할 수 있어서 중복되는 부분과 서로간의 상호관계를 자세히 검토할 수 있습니다. 또한 고급 지원 기능인 Interactive DRC, Snap Object, Array, 등의 기능을 이용하면 설계 시간을 절약할 수 있고, 일련의 Objects 에 대해 AND, OR, XOR, Subtract, Grow, Shrink 와 같은 부울 연산을 통해 그리기 어려운 Objects 의 모양을 신속하고 쉽게 그릴 수 있습니다.

  • 레이아웃으로 MEMS 3D 모델 만들기
  • Curved Polygon 과 같이 MEMS 친화적 인 기능을 갖춘 프로그래밍이 가능한 Layout Editor
  • MEMS 제조 가능성을 위한 Design Rule Checking
  • IC 설계 및 MEMS 디바이스의 시스템 레벨 시뮬레이션
  • 완벽한 Layer 및 Design Geometry 시각화
  • MEMS 디바이스의 Behavioral Model 자동 생성
  • Boundary Reconstruction 을 통한 DXF 가져 오기, DXF 내보내기
  • Windows 및 Linux 에서 사용 가능

 

Tanner MEMS Design Datasheet Download

Advanced 3D Analysis Tools

Foundry-Proven Mechanical, Thermal, Acoustic, Electrical, Electrostatic, Magnetic 와 Fluid 분석

Complex Polygon Boolean Operations

Boolean Operation and Results
Automatic Layout Generation with Parameterized Cells
C++ 또는 TCL 을 이용하여 배포 용으로 컴파일 지원
Advanced Mask Layout and Verification Flow
다양한 MEMS 파운드리 입증 프로세스 지원을 이용할 수 있습니다.
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